在芯片领域，有一个叫光刻机的设备，不是印钞机，但却比印钞机还金贵。

全球只有荷兰一家叫做阿斯麦（ASML）的公司集全球高端制造业之大成，一年时间造出二十台高端设备，台积电与三星每年为此抢破了头，中芯国际足足等了三年，也没能将中国的首台EUV光刻机迎娶进门。

目前，全球光刻机已由荷兰ASML、日本尼康和佳能公司完全垄断。据芯思想研究院（ChipInsights）数据，2020年上述三家公司半导体用光刻机出货413台，较2019年的359台增加54台，涨幅为15%。其中，ASML公司出货258台，占比62.47%；尼康公司出货31台，占比7.51%；佳能公司出货122台，占比29.54%。

根据光刻机领域的数据来看，全球市场上百分之九十的份额都被国外的巨头公司所掌控。其中，在高端的光刻机领域，ASML公司更是一家独秀，它制造的EUV光刻机是其他公司都制造不出来的。生产一台EUV光刻机需要用上10万个零部件，背后还有5000家供应商的支持。要知道EUV光刻机是唯一可以生产7nm芯片的设备，缺少这种光刻机的话，就没有办法生产出高制程的芯片。

光刻机的重要性不言而喻，没有光刻机就造不了芯片，设计好的芯片电路图就无法曝光在晶圆上，中国研究人员一直在努力。

光刻机是有种类需求之分的，ASML只是在中高端市场占据主导地位，在后道封装光刻机领域，ASML影响力就未必那么大了。除此之外，面向配套生产设施中的应用设备领域，数字光刻机也是备受关注的。在数字光刻机方面，中国公司正式宣布，将启动生产项目。

近日，源卓微电子装备有限公司举办了DiSS系列数字光刻机投产仪式，其将在湖南常德启动总投资2亿元的生产线项目，主要投产自主研发的DiSS数字步进扫描光刻机，2022年预计年产150台设备。

DiSS数字光刻机的全称是Digital-Step-Scan，根据需求而言，源卓微电子的DiSS数字步进扫描光刻机拥有强大的应用能力，和主流的EUV，DUV光刻机不同，它的应用范围虽然小众，却也能发挥重要的产业价值。

目前，源卓微电子掌握的设备还包括DiSS-28D，DiSS-35T等系列产品，算上2022年投产的项目，预计将在DiSS系列取得更大的产业突破。

在一定程度上来看，源卓微电子自研的DISS数字光刻机正式投产的意义非常重大，不仅可以助力国产半导体产业，而且还补齐了我们在光刻机基础技术和供应体系等方面的短板。

可能会有人说，DISS数字光刻机并不是高端光刻机，也解决不了国内市场的芯片危机。但是，这足以证明ASML的担忧正在应验，就算没有图纸，我们也可以生产出光刻机。

我们国产自主研发也突破了光刻机设备上非常多的核心零部件，包括双工件台、物镜系统、浸没系统和光源系统等等。双工件台由华卓精科负责，上海微电子也能提供整机装备，光源系统有望通过中科院的高能同步辐射光源设备来解决。

在国产光刻机领域，先是中科院的高能同步辐射光源设备，然后是中科科美的两大镀膜装置，分别可以解决国产光刻机在光源以及光学镜头的需求。

由中科院高能物理研究所参与承建的高能同步辐射光源设备，已经实现安装。这项高能同步辐射光源也被央视公开“点名”，用了较长篇幅进行报道。

中科科美分别研制了直线式劳埃透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置。这两项装置主要面向光刻机的镜头配备，有了这些镀膜装置，可以很大程度提高国产光刻机在光学镜头上的水准。

虽然我们制造出整台EUV光刻机还有一段距离，但是随着每一项技术的进步，都在奠定国产光刻机的未来，加速国产光刻机的发展。而且推动了国产光刻机从成熟工艺到高端工艺的迈进。

一旦成功掌握，中国可能会生产出更便宜，成本更低的光刻机设备。事实证明，外界的限制因素只会让国产科技发展得更快，没有什么力量是可以阻止国产科技崛起的。

对于国内光刻机市场来说，源卓微电子研发的DISS数字光刻机正式下线投产无疑是一个好消息，但是我们也要记住，半导体芯片领域所有的突破都不在一朝一夕，需要不断积累核心技术和经验，更需要有“十年磨一剑”的精神，只要我们不放弃，终会迎来爆发的一天。

对国产光刻机你有什么看法呢？

来源：工程客微信号